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聯(lián)電大舉購置新機臺擴產(chǎn),瞄準8英寸晶圓第三代半導體制造領(lǐng)域

日期:2022-05-09 來源:全球半導體觀察閱讀:324
核心提示:據(jù)媒體報道,聯(lián)電加速布局8英寸晶圓第三代半導體制造領(lǐng)域,自行購置蝕刻、薄膜新機臺,預計下半年將進駐8英寸AB廠。
據(jù)媒體報道,聯(lián)電加速布局8英寸晶圓第三代半導體制造領(lǐng)域,自行購置蝕刻、薄膜新機臺,預計下半年將進駐8英寸AB廠。
 
在2021年年底,業(yè)界便有消息表明,聯(lián)電早已低調(diào)布局第三代半導體領(lǐng)域。其主要通過轉(zhuǎn)投資聯(lián)穎光電切入,鎖定6英寸氮化鎵;并與比利時微電子研究中心(IMEC)合作,進行技術(shù)研發(fā)合作。
 
據(jù)悉,聯(lián)穎光電為聯(lián)電子公司,主要提供6英寸氮化鎵晶圓代工服務(wù),生產(chǎn)CMOS 制程的二極管、MOSFET 以及濾波器等。多年前聯(lián)電將旗下6英寸廠轉(zhuǎn)給聯(lián)穎光電。在2021年下半年開始,聯(lián)穎光電業(yè)績持續(xù)上升。市場也傳出聯(lián)穎打算辦理現(xiàn)金增資、擴展產(chǎn)能的消息。
 
聯(lián)電首席財務(wù)官劉啟東對此回應(yīng)稱,集團在第三代半導體的發(fā)展上,仍以聯(lián)穎為主,聯(lián)電則進行研發(fā),不過確實有在合作,但細節(jié)不便透露。聯(lián)電強調(diào),在6英寸氮化鎵領(lǐng)域站穩(wěn)腳步之后,也將展開碳化硅(SiC)布局,并朝8英寸晶圓發(fā)展。聯(lián)穎第三代半導體制程將以CMOS制程做轉(zhuǎn)換,未來有機會將伺機尋求生產(chǎn)擴充的空間。
 
據(jù)TrendForce集邦咨詢研究推估,第三類功率半導體產(chǎn)值將從2021年的9.8億美元,至2025年將成長至47.1億美元,年復合成長率達48%。而GaN適合高頻率應(yīng)用,包括通訊裝置,以及用于手機、平板、筆電的快充。預估GaN功率半導體至2025年可達13.2億美元。 
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