SK海力士4月1日宣布，與韓國特種氣體公司TEMC合作開發(fā)出半導體行業(yè)首個氖氣回收技術(shù)，這一成就是在與TEMC開始開發(fā)回收技術(shù)一年多后取得的。氖氣是稀有氣體之一，也是半導體光刻工藝所必需的準分子激光氣體的主要成分。氖氣用作激光光源時具有不發(fā)生化學分解或變化的特點。這意味著氖一旦使用，經(jīng)過分離和提純過程去除雜質(zhì)后可以回收利用。

針對這一點，SK海力士和TEMC成功開發(fā)出氖氣回收技術(shù)。這些公司將氖氣收集在收集罐中，否則氖氣會在光刻過程后通過洗滌器排放到空氣中。然后，通過TEMC的氣體處理工藝，氖氣被選擇性地分離和純化。純化后的氖氣將返回給SK海力士，進一步用于半導體制造工藝。目前，氖回收率為72.7%。SK海力士計劃不斷提高凈化率，將氖回收率提高至77%。

在半導體工廠應用氖氣回收技術(shù)，預計每年可減少約400億韓元的氖氣采購成本。

（來源：集微）