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長春光機所高速VCSEL研究進展綜述

日期:2022-10-27 閱讀:277
核心提示:近日,長春光機所王立軍院士團隊在《中國光學(xué)》期刊上發(fā)表了題為長春光機所高速垂直腔面發(fā)射激光器研究進展的最新論文,團隊通過

近日,長春光機所王立軍院士團隊在《中國光學(xué)》期刊上發(fā)表了題為“長春光機所高速垂直腔面發(fā)射激光器研究進展”的最新論文,團隊通過優(yōu)化VCSEL外延設(shè)計和生長、器件設(shè)計和制備、以及性能表征技術(shù),在多個波長的高速VCSEL的調(diào)制帶寬、傳輸速率、模式、功耗等性能方面取得了顯著進展。

隨著流媒體、云計算、區(qū)塊鏈等新興消費和社交媒體的出現(xiàn),互聯(lián)網(wǎng)流量以每年約60%的速度大幅增長,遠遠超過思科(Cisco)公司預(yù)測。垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)具有閾值電流低、量子效率高、調(diào)制帶寬高、能耗低等優(yōu)點,基于VCSEL和多模光纖(MMF)是數(shù)據(jù)傳輸?shù)闹匾M成部分。數(shù)據(jù)流量的迅速增長牽引VCSEL向更大帶寬、更高速率、更低能耗方向發(fā)展。

在高速VCSEL調(diào)制帶寬方面,查爾姆斯理工大學(xué)(CUT)、伊利諾伊大學(xué)厄巴納-香檳分校(UIUC)、Finisar等多個研究組都實現(xiàn)了850nm VCSEL近30 GHz的調(diào)制帶寬。CHENG C L、HAGHIGHI N、SIMPANEN E在940nm、980nm和1060nm波長高速VCSEL研究方面,也分別實現(xiàn)了類似的指標(biāo)。在高速VCSEL傳輸速率方面,KUCHTA D M等人采用前饋均衡驅(qū)動實現(xiàn)不歸零碼(NRZ-OOK)調(diào)制下71Gb/s數(shù)據(jù)傳輸。4電平脈沖幅度調(diào)制(PAM4)可進一步提升傳輸速率,并可通過均衡和前向糾錯進一步提升傳輸速率至200Gbit/s。通過波分復(fù)用(WDM),可大大增加光鏈路的容量和傳輸速率。單模VCSEL可延長傳輸距離至2000m以上。在能耗方面,MOSER P實現(xiàn)了56fJ/bit@25Gb/s的超低能耗。

面向高速光通信需求,研究人員從高速VCSEL帶寬限制機理和提升方法出發(fā),通過優(yōu)化VCSEL外延設(shè)計和生長、器件設(shè)計和制備以及性能表征技術(shù),在多個波長高速VCSEL的調(diào)制帶寬、傳輸速率、模式、功耗等性能方面取得了顯著進展,可滿足不同應(yīng)用場景。本文接下來第二部分將介紹帶寬限制因素和提升方法;第三部分介紹本課題組高速VCSEL的研究進展;第四部分進行總結(jié)。

高速VCSEL帶寬限制因素

氧化限制型高速VCSEL截面示意圖如圖1所示。其主要包括有源區(qū),p-和n-布拉格反射鏡(DBR),單層或多層氧化孔,苯丙環(huán)丁烯(BCB)填平材料,p-、n-電極和共面電極。有源區(qū)可為量子阱或量子點。DBR由兩種具有不同折射率、每層厚度為四分之一波長的材料交替生長組成;氧化孔可通過濕法氧化高Al組分的氧化層制備。

 

圖1 氧化限制型高速VCSEL截面示意圖

VCSEL的頻率響應(yīng)可以用傳輸函數(shù)來表征,

 

 

為了提高調(diào)制帶寬,需要增大馳豫振蕩頻率,減小阻尼因子和增大寄生截止頻率。

......

高速1030nm VCSEL

相比于850nm波長VCSEL,1030nm波長VCSEL在光纖傳輸中的色散和衰減大大降低,有利于提高傳輸距離。此外,1030nm VCSEL可應(yīng)用于850−1060nm波段(間隔30nm)的WDM,提高光纖鏈路的通信容量和傳輸速率。

本課題組采用應(yīng)變InGaAs/GaAsP量子阱、λ/2短光腔和6層氧化物孔設(shè)計,提高縱向光限制因子、降低寄生電容,提高VCSEL的3dB帶寬。研制的高速1030nm VCSEL模擬、測試表征結(jié)果如圖2所示。

 

 

圖2 (a)設(shè)計的VCSEL折射率分布和駐波場分布;(b)氧化后的VCSEL截面SEM;(c)1030nm VCSEL L-I-V;(d)1030nm VCSEL光譜;(e)25℃條件下1030nm VCSEL小信號響應(yīng);(f)85℃條件下1030nm VCSEL小信號響應(yīng)

高速1550nm VCSEL

1550nm VCSEL在光纖中傳輸損耗小,更適合于長距離光纖傳輸。目前,1550nm VCSEL技術(shù)還不成熟:與長波長有源區(qū)相比配的高反射率和低電阻的DBR難以生長,有效電流限制層難以制備、熱問題顯著。晶圓熔合(WF)技術(shù)為高性能DBR難以形成的問題提供了解決方案。在InP襯底上生長有源區(qū),在GaAs襯底上生長熱性能好的DBR,然后通過晶圓熔合技術(shù)將它們結(jié)合在一起,從而獲得腔長較短、散熱性能較好的1550nm VCSEL。此外,掩埋隧道結(jié)(BTJ)結(jié)構(gòu)可減少長波長VCSEL的熱效應(yīng),并實現(xiàn)對電流的限制。俄羅斯ITMO大學(xué)的L.Karachinsky團隊通過晶圓融合和BTJ技術(shù)制備了1550nm VCSEL。

我們與Karachinsky團隊合作,在室溫、6mA偏置電流和1V調(diào)制電壓條件下,提高1550nm VCSEL傳輸速率至37Gbit/s(3m單模光纖),在誤碼率BER=10−12下眼寬0.25UI(6.75ps),總抖動75%(20.27ps),如圖3所示。

圖3(a)高速1550nm VCSEL傳輸眼圖;(b)高速1550nm VCSEL浴盆曲線。BTJ為6μm。

結(jié)束語

通過優(yōu)化VCSEL外延設(shè)計和生長、器件設(shè)計和制備、以及性能表征技術(shù),在多個波長的高速VCSEL的調(diào)制帶寬、傳輸速率、模式、功耗等性能方面取得了顯著進展。實現(xiàn)了高速單模940nm VCSEL 27.65GHz調(diào)制帶寬和53Gbit/s傳輸速率;通過波分復(fù)用基于850nm、880nm、910nm和940nm高速VCSEL實現(xiàn)了200Gbit/s鏈路方案;通過光子壽命優(yōu)化,實現(xiàn)了高速VCSEL低至100fJ/bit的超低能耗;實現(xiàn)了1030nm高速VCSEL 25GHz調(diào)制帶寬;實現(xiàn)了1550nm高速VCSEL 37Gbit/s傳輸速率。研制的高速VCSEL在高速光通信等有重要應(yīng)用前景。

本研究獲得了國家重點研發(fā)計劃(No. 2021YFB2801000,No. 2018YFB2201000)、國家自然科學(xué)基金(No. 61774156,No.62174159,No. 62061136010)、中國科學(xué)院青年創(chuàng)新促進會(No. 2018249)、中德科學(xué)中心合作交流項目(No. M0386)、吉林省國際合作項目(No. 20210402055GH)的支持。

 

(來源:MEMS)

 

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