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瑤芯微申請溝槽型MOSFET器件結(jié)構(gòu)及其制備方法專利,降低器件動態(tài)損耗

日期:2025-04-22 閱讀:242
核心提示:國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,瑤芯微(上海)電子科技股份有限公司申請一項名為11757.一種溝槽型MOSFET器件結(jié)構(gòu)及其制備方法的專利,

 國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,瑤芯微(上海)電子科技股份有限公司申請一項名為“11757.一種溝槽型MOSFET器件結(jié)構(gòu)及其制備方法”的專利,公開號CN119855183A,申請日期為2024年12月。

專利摘要顯示,本發(fā)明提供一種溝槽型MOSFET器件結(jié)構(gòu)及其制備方法,本發(fā)明的溝槽型MOSFET器件結(jié)構(gòu)或制備的溝槽型MOSFET器件結(jié)構(gòu)中,柵極導(dǎo)電結(jié)構(gòu)包括多層?xùn)艠O多晶硅層,其中,相鄰兩層?xùn)艠O多晶硅層的摻雜類型不同,從而在柵極導(dǎo)電結(jié)構(gòu)內(nèi)部形成了至少一個PN結(jié),使得柵極導(dǎo)電結(jié)構(gòu)內(nèi)部具有至少一個柵極結(jié)電容,這個或這些柵極結(jié)電容與器件的固有電容(即本征柵漏電容)串聯(lián),使得器件的總柵漏電容變小,柵漏電荷減少,從而有利于降低器件的動態(tài)損耗,同時又不會提高器件的特征導(dǎo)通電阻。也就是說,本發(fā)明的溝槽型MOSFET器件結(jié)構(gòu)及其制備方法優(yōu)化了柵漏電荷和特征導(dǎo)通電阻之間的折中關(guān)系,有助于提升器件的電性能。

天眼查資料顯示,瑤芯微(上海)電子科技股份有限公司,成立于2019年,位于上海市,是一家以從事軟件和信息技術(shù)服務(wù)業(yè)為主的企業(yè)。企業(yè)注冊資本1685.2302萬人民幣。通過天眼查大數(shù)據(jù)分析,瑤芯微(上海)電子科技股份有限公司共對外投資了4家企業(yè),財產(chǎn)線索方面有商標信息14條,專利信息139條,此外企業(yè)還擁有行政許可3個。

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