天眼查顯示，北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司“工藝氣體噴嘴及半導體工藝腔室”專利公布，申請公布日為2024年10月18日，申請公布號為CN118792637A。
本發(fā)明公開一種工藝氣體噴嘴及半導體工藝腔室，所公開的工藝氣體噴嘴包括噴嘴主體（21）、第一凸起（22）和環(huán)狀部（23），所述噴嘴主體（21）具有第一端（213）和第二端（214），所述環(huán)狀部（23）環(huán)繞所述第二端（214）設置，所述第一凸起（22）設于所述噴嘴主體（21）上，并位于所述環(huán)狀部（23）的朝向所述第一端（213）的一側，所述第一凸起（22）背向所述環(huán)狀部（23）的表面（222）與所述噴嘴主體（21）形成反向導流槽（04）。此方案能解決相關技術在對半導體工藝腔室的內壁進行清潔時存在清潔效果較差的問題。
