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天科合達8英寸SiC襯底二期項目開工!

日期:2024-11-12 閱讀:676
核心提示:天科合達官微宣布,公司“第三代半導體碳化硅襯底產(chǎn)業(yè)化基地建設二期項目”開工儀式在北京順利舉行。

 2024年11月12日,天科合達官微宣布,公司“第三代半導體碳化硅襯底產(chǎn)業(yè)化基地建設二期項目”開工儀式在北京順利舉行。

該擴產(chǎn)項目旨在打造行業(yè)內領先的智能化生產(chǎn)線,量產(chǎn)8英寸碳化硅襯底。該項目全面投產(chǎn)后,公司的產(chǎn)能將得到顯著提升,進一步鞏固其在碳化硅襯底市場的領先地位。楊建總經(jīng)理在致辭中表示:

“公司核心產(chǎn)品為6-8英寸碳化硅襯底,技術參數(shù)指標與國際龍頭企業(yè)相當,產(chǎn)品質量達到國際先進水平,已向國內外多家企業(yè)及科研機構批量供應,為國產(chǎn)碳化硅材料在功率器件、微波射頻器件等領域的應用奠定了基礎。同時,公司的產(chǎn)品暢銷至日本及歐美在內的20多個國家和地區(qū),是國內少數(shù)能夠進入國際知名企業(yè)的高端技術產(chǎn)品。”天科合達表示,隨著北京二期項目的啟動,標志著天科合達開啟了嶄新的發(fā)展篇章,同時為區(qū)域經(jīng)濟的蓬勃發(fā)展注入了新的動力。該項目不僅將推動公司在碳化硅襯底材料領域的技術進步和產(chǎn)能擴張,也能通過優(yōu)化生產(chǎn)流程和提高效率,有效降低成本。

來源:天科合達官微

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