國家知識產(chǎn)權局信息顯示，廣東中圖半導體科技股份有限公司申請一項名為“一種高一致性圖形化襯底的制備方法、圖形化襯底和LED外延片”的專利，公開號CN 119153591 A，申請日期為2024年9月。
專利摘要顯示，本發(fā)明實施例提供的一種高一致性圖形化襯底的制備方法、圖形化襯底和LED外延片，該方法首先提供一襯底；應用物理、化學或機械平坦化技術中的至少一種，對襯底的第一表面進行原子級平坦化處理，以使第一表面的粗糙度達到第一表面粗糙度范圍，和/或對襯底的第二表面進行原子級平坦化處理，以使第二表面的粗糙度達到第二表面粗糙度范圍；在襯底的第二表面形成光刻膠層；利用掩膜版對光刻膠層進行曝光，以將掩膜版上的圖形轉移至襯底的第二表面。解決了因襯底表面粗糙，使得在圖形化工藝曝光過程中，曝光光束在透過襯底時，在襯底表面發(fā)生反射、折射，從而對光刻膠進行多次曝光，從而導致刻蝕后圖形化襯底的均一性降低的問題。
